Ведущий китайский производитель оборудования для фотолитографии SMEE сообщает, что к концу года представит новый сканер, способный работать с разрешением до 28 нанометров. Компания Shanghai Micro Electronics Equipment в прошлом предлагала сканеры, способные работать только на уровне 90 нм, поэтому готовящийся к выпуску сканер SSA/800-10W обещает произвести серьезный технологический скачок в индустрии.
Появление в Китае собственного 28-нм решения позволит снизить зависимость Китая от импорта производственного оборудования и сырья, доступ к которым все чаще ограничивается другими странами, в результате чего крупнейшие китайские производители микросхем, такие как SMIC и YMTC, сталкиваются с трудностями при модернизации своих производств.
Новый сканер SMEE пригодится в первую очередь SMIC и исследовательским центрам, финансируемым государством. Однако остается открытым вопрос о том, располагает ли SMEE средствами для массового производства. Один опытный образец мало что даст для преодоления отставания в производительности от западных конкурентов.
